Ngành công nghiệp bán dẫn của Trung Quốc đang chứng kiến những bước tiến mới với sự ra mắt của hai máy sản xuất chip nội địa. Mặc dù còn nhiều hạn chế so với các sản phẩm của các công ty hàng đầu thế giới, nhưng đây là một thành tựu đáng ghi nhận.
Bộ Công nghiệp và Công nghệ thông tin cho biết Trung Quốc đã đạt được những bước đột phá đáng kể trong công nghệ sản xuất chip với hai máy in thạch bản mới, sở hữu nhiều sáng chế độc đáo. Tuy nhiên, thông tin chi tiết về các công ty đứng sau và thời điểm ra mắt thị trường vẫn được giữ bí mật.
NỖ LỰC TỰ CHỦ NGÀNH BÁN DẪN CỦA TRUNG QUỐC
Theo báo cáo mới nhất của Bộ Công nghiệp và Công nghệ thông tin Trung Quốc, quốc gia này đã phát triển thành công hai máy in thạch bản (DUV) với thông số kỹ thuật ấn tượng.
Một trong hai máy này hoạt động ở bước sóng 193nm, đạt độ phân giải dưới 65nm và độ chính xác phủ lớp mỏng dưới 8nm. Trong khi đó, máy còn lại sử dụng bước sóng 248nm, có độ phân giải 110nm và độ chính xác phủ 25nm. Những thông số này cho thấy Trung Quốc đã đạt được những tiến bộ đáng kể trong lĩnh vực sản xuất thiết bị bán dẫn, rút ngắn khoảng cách với các cường quốc công nghệ hàng đầu thế giới.
Mặc dù Trung Quốc đã đạt được những tiến bộ đáng kể trong việc phát triển máy in thạch bản DUV, nhưng các sản phẩm nội địa vẫn còn một khoảng cách khá lớn so với các công nghệ tiên tiến nhất của ASML.
Trong khi máy DUV của ASML có thể đạt độ phân giải dưới 38nm và độ chính xác phủ lớp mỏng chỉ 1,3nm, cho phép sản xuất các chip siêu nhỏ và hiệu năng cao, thì các máy của Trung Quốc vẫn còn giới hạn ở mức độ phân giải và độ chính xác thấp hơn. Điều này cho thấy Trung Quốc cần tiếp tục đầu tư vào nghiên cứu và phát triển để có thể bắt kịp các đối thủ cạnh tranh và sản xuất ra những con chip tiên tiến nhất thế giới.
Bên cạnh đó, các máy cực tím (EUV) hiện đại, sử dụng ánh sáng có bước sóng chỉ 13,5nm, cho phép tạo ra các mạch tích hợp với độ phân giải cao hơn gấp nhiều lần so với máy DUV. Điều này đồng nghĩa với việc các chip sản xuất bằng công nghệ EUV sẽ có kích thước nhỏ hơn, hiệu năng cao hơn và tiêu thụ điện năng ít hơn.
TRUNG QUỐC VẪN CHƯA THỂ TỰ CHỦ HOÀN TOÀN TRONG LĨNH VỰC SẢN XUẤT CHIP TIÊN TIẾN
Mặc dù đã đầu tư rất nhiều nguồn lực, Trung Quốc vẫn chưa thể tự chủ hoàn toàn trong lĩnh vực sản xuất chip tiên tiến. Công nghệ quang khắc, yếu tố cốt lõi trong quá trình sản xuất chip, vẫn còn là một rào cản lớn mà nước này chưa thể vượt qua.
Sự phụ thuộc quá lớn vào ASML trong lĩnh vực máy quang khắc đã khiến ngành công nghiệp bán dẫn của Trung Quốc trở nên dễ bị tổn thương trước những thay đổi trong chính sách thương mại toàn cầu.
Việc ASML cắt giảm cung cấp máy EUV và đối mặt với áp lực từ Hoa Kỳ đang làm trầm trọng thêm tình trạng này, khiến Trung Quốc khó khăn hơn trong việc sản xuất các loại chip tiên tiến và giảm thiểu sự phụ thuộc vào nước ngoài.
Tập đoàn Thiết bị Điện tử Vi mô Thượng Hải (SMEE) thuộc sở hữu nhà nước, hy vọng lớn nhất của Trung Quốc để phát triển các hệ thống quang khắc tiên tiến của riêng mình, vẫn còn kém xa so với các đối thủ toàn cầu như ASML.
Việc bị đưa vào danh sách đen thương mại của Hoa Kỳ đã khiến SMEE gặp khó khăn trong việc tiếp cận các công nghệ cốt lõi, tài năng và nguồn cung cấp cần thiết để phát triển các hệ thống quang khắc tiên tiến. Công ty này đang phải đối mặt với một loạt các thách thức, từ việc thiết kế các hệ thống quang học phức tạp đến việc đảm bảo độ chính xác cao trong quá trình sản xuất.
Mặc dù đối mặt với nhiều khó khăn, SMEE đã đạt được những bước tiến đáng kể trong việc phát triển công nghệ quang khắc. Việc nộp bằng sáng chế cho "máy phát bức xạ EUV và thiết bị quang khắc" vào tháng 3 năm ngoái cho thấy những nỗ lực không ngừng của công ty trong việc thu hẹp khoảng cách với các đối thủ cạnh tranh toàn cầu.
Google translate